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製品の詳細
NTTのFZPドライエッチングTa構成。優れた忍耐力を持つX放射線放射性、高分解能、高コントラスト、吸収体パターンが明瞭で、S/N比が高く、結像欠陥が少ない,理想的に応用できるX放射線顕微鏡、X放射線マイクロビーム放射とX放射線イメージング。
また、ソフト用にも提供するX放射線と極紫外線（EUV、XUV）領域のTa図案／SiNまくがたFZPとAuプレートパターン／SiNまくがたFZP。階段式（キノホログラム）を提供するFZP
モデル |
アスペクト比 |
フィルム材料 |
まくあつさ （μm） |
ΔRn （nm） |
D （μm） |
N |
Tm （nm） |
FZP-S38/84 |
4.2 |
SiN |
0.15 |
38 |
84 |
550 |
160 |
FZP-S50/80 |
5 |
SiN |
0.2 |
50 |
80 |
400 |
250 |
FZP-S40/155 |
5 |
SiN |
2 |
40 |
155 |
970 |
200 |
FZP-S50/330 |
8 |
SiN |
1 |
50 |
330 |
1,650 |
400 |
FZP-S86/416 |
8 |
SiN |
2 |
86 |
416 |
1,200 |
700 |
FZP-100/155 |
8 |
SiN |
2 |
100 |
155 |
388 |
800 |
FZP-173/208 |
5.8 |
SiN |
2 |
173 |
208 |
300 |
1,000 |
FZP-200/206 |
8 |
SiN |
2 |
200 |
206 |
255 |
1,600 |
FZP-C234/2500 |
0.6 |
SiC |
0.2 |
234 |
2,500 |
2,670 |
150 |
NTT-ATのEUV-FZPはEUV波長に最適化されている。
薄膜上のTa吸収剤パターンは100 nm／a未満を実現した
少数の100ナノフォーカスやイメージングなど
-EUV顕微鏡
-EUVナノビーム生成
-超微細EUV検査オンライン照会
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単位
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